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半导体器件建模仿真与分析教程

这门课讲的是半导体器件的建模与仿真分析,落点在具体器件结构上,而不是泛泛地讲半导体物理。它要解决的工作场景很明确:你手里有一个器件结构想法,比如 PN 结、LDMOS 或者超结器件,需要先在软件里把结构建出来、把电学特性跑出来,看看击穿电压、导通电阻、电场分布这些指标合不合格,再决定要不要流片。会用

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这门课讲的是半导体器件的建模与仿真分析,落点在具体器件结构上,而不是泛泛地讲半导体物理。它要解决的工作场景很明确:你手里有一个器件结构想法,比如 PN 结、LDMOS 或者超结器件,需要先在软件里把结构建出来、把电学特性跑出来,看看击穿电压、导通电阻、电场分布这些指标合不合格,再决定要不要流片。会用这套流程的人,能少做几轮无效的版图迭代。

先确认自己适不适合学

这门课不是零基础科普。它默认你对半导体物理有基本印象,知道载流子、掺杂、耗尽层这些概念大概指什么,也见过至少一种器件仿真工具的界面。如果你连 PN 结为什么会有内建电势都要从头查,那前半部分的物理简述能帮你补,但节奏会偏快。反过来,如果你已经能跑通简单的器件仿真、只是对结构建模和后处理不熟,这门课的收益会更直接。另外它涉及 Linux 环境下的软件安装和命令行操作,完全没碰过 Linux 的人需要预留一点适应时间。

建议的观看顺序

开头几节别跳。半导体物理和器件物理的简述看着像复习,但它决定了后面数值求解那部分你能不能看懂边界条件是怎么设的。一维 PN 结的数值求解是整门课的方法论基础,它把「写出方程—离散化—求解—看结果」这条链路走了一遍,后面的二维、三维结构建模都是在这条链路上加维度。等你把 PN 结跑通了,再进入具体结构的建模环节,包括 TDR 文件的后处理和超结 LDMOS 这类实际器件的搭建。这部分是课程的重心,也是最能体现「学完能做什么」的地方。

学完之后能做到什么,以及资料怎么用

比较现实的目标是:给你一个器件结构描述,你能独立完成从结构建模、掺杂分布设置、物理模型选择到特性曲线提取的全过程,并能对仿真结果做基本判断——比如击穿电压曲线哪里不对、电场集中出现在哪个结面。这已经够支撑器件设计岗位上的日常仿真任务。

资料配合上,建议不要只看视频。每看完一个器件建模的段落,自己换一组掺杂浓度或者结构尺寸重新跑一遍,对比结果差异。后处理部分尤其要动手,因为 TDR 文件的读取和曲线绘制是很多人卡住的地方,看一遍和做一遍差距很大。视频里出现的软件操作,尽量在自己的环境里复现,装不上的时候再回头对照安装那节。把仿真当成一个需要反复调参的实验过程,而不是看一遍就过的演示,这门课的价值才出得来。

课程目录

课程目录38 集
  • 半导体器件的建模和分析是器件设计的核心环节,熟练掌握器件的建模与分析方法,能够帮助我们更好地开展器件设计和分析工作,提高设计效率,缩短研发周期。 | 文件名 | 大小 | 时间 | |--------|------|------------------| | 0001--1.1-半导体器件建模概述_linux基础与软件安装.mp4
  • | 1.01G | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--1.2-半导体物理基础简述.mp4
  • | 706.5M | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--1.3-半导体器件物理简述.mp4
  • | 650M | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--1.4-一维PN结的数值求解.mp4
  • | 662.6M | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--2-3__TDR文件的后处理与SJ-LDMOS结构建模.mp4
  • | 1.37G | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--2-4-FinFET_Nanosheet器件建模与随机涨落方法.mp4
  • | 1.42G | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--2-5-网格划分的基础知识与评价标准.mp4
  • | 955.5M | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--2.1-二维MOSFET的建模与SWB的基本原理.mp4
  • | 1.23G | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--2.2-Trench_IGBT的建模与SWB的基本原理(二).mp4
  • | 1.5G | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--3-1-MOSFET器件静态与瞬态特性的求解.mp4
  • | 1.69G | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--3-10-交流小信号分析.mp4
  • | 993.9M | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--3-11-交流小信号分析(二).mp4
  • | 960.8M | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--3-12-模型参数修改与新建材料(Ga2O3_MOSFET与SiGe_Diode).mp4
  • | 1.28G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-13-隧穿模型与隧穿器件.mp4
  • | 715.4M | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--3-14-非完全电离_各向异性与SiC_MOSFET仿真.mp4
  • | 1008.4M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-15_极化效应与GaN_HEMT.mp4
  • | 549.2M | 2026-04-02 22:
  • 32 | | 0001--3-16_sdevice求解流程、Math设置与收敛性调整思路.mp4
  • | 1.17G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-2.TCL编程与SVISUAL自动化数据处理(一).mp4
  • | 1.5G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-3-器件仿真中的物理模型(一).mp4
  • | 1.21G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-4_物理模型(二)与温度仿真.mp4
  • | 1.2G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-5_碰撞电离与击穿特性仿真.mp4
  • | 1.08G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-6_SPICE模型、混合模式与sdevice编程-一个环振的仿真.mp4
  • | 1.26G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-7-混合模式(二)-修改SPICE模型参数___SVISUAL动画自动生成.mp4
  • | 1.32G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-8-缺陷与辐照特性仿真(单粒子效应与总剂量效应).mp4
  • | 1.28G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--3-9-缺陷(二)与辐照特性仿真(总剂量效应).mp4
  • | 736M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--4-1_-半导体工艺技术简述.mp4
  • | 529.7M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0001--工艺仿真提前梳理(临时).mp4
  • | 697.3M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0002--4-2_版图绘制基础(上).mp4
  • | 514.3M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0003--4-3-版图绘制(中)-Cell处理与实用小工具.mp4
  • | 1.16G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0004--4-4-版图绘制(下)-派生图层与宏命令编写.mp4
  • | 1.04G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0005--4-5-工艺仿真基础(一).mp4
  • | 1.59G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0006--4-6-工艺仿真基础(二)-Static与Adaptive网格设置.mp4
  • | 1.45G | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0007--4-7-工艺仿真基础(三)(上).mp4
  • | 755.5M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0008--4-8-工艺仿真基础(三)(下).mp4
  • | 392.9M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0009--4-9基于ICWBEV的工艺仿真,实现纵向和横向设计的完美分离,提高仿真效率.mp4
  • | 677.9M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0010--4-10-基于ICWBEV的工艺仿真(二)与光电二极管仿真.mp4
  • | 1001.7M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0011--4-11-sprocess结构生成(刻蚀、淀积)与MGOALS.mp4
  • | 1022.5M | 2026-04-02 22:
  • 33 | | 0012--4-12_离子注入仿真(上).mp4
  • | 702.8M | 2026-04-02 22:33 |